【摘 要】
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近年来,大规模集成电路的集成度不断提高。图形日益转细,批量生产所用的图形的最小尺寸为5～6M,实验室中已精细到2μm 左右,这已经达到光刻技术所能做到的极限、作为突破这一
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近年来,大规模集成电路的集成度不断提高。图形日益转细,批量生产所用的图形的最小尺寸为5～6M,实验室中已精细到2μm 左右,这已经达到光刻技术所能做到的极限、作为突破这一极限的最新手段,电子束曝光技术受到人们的注意,各研究部门投入了大量的精力进行了研
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