硫脲对铜阴极电沉积表面光滑度的影响

来源 :山东建材学院学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mashangdenglu998
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利用电位阶跃法研究了硫脲对阴极铜电沉积的电化学成核过程的影响,利用暂态电流量最大值计算成核数密度,并同时较好地区分瞬间成核和持续成核过程,使理论计算值与经验值较好地吻合,得到铜电解精炼中硫脲作为单一添加剂时的最佳浓度,并利用扫描电镜对实际电解样品进行了测试。 The effect of thiourea on the electrochemical nucleation process of copper cathodes was studied by potential step method. The nucleation number density was calculated by the maximum value of transient current, and the distinction between transient nucleation and continuous nucleation , The theoretical calculated value is in good agreement with the empirical value, and the optimal concentration of thiourea as a single additive in copper electrolytic refining is obtained. The actual electrolytic sample is tested by scanning electron microscopy.
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