镶嵌钨的化学机械抛光的研究

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研究的是ULSI镶嵌钨CMP的选择性 ,化学与机械作用匹配 ,浆料的悬浮及存放和后清洗等问题。 The study is about the ULSI mosaic tungsten CMP selectivity, chemical and mechanical matching, slurry suspension and storage and post-cleaning issues.
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