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本文研究了将ＴｉＣｌ４，Ｎ２，Ｈ２混合气体在钢和玻璃等基体表面进行等离子体辅助化学气相沉积的ＴｉＮ涂层。结果表明：ＴｉＮ涂层的密度和晶性受射频放电功率密度的影响；且Ｘ射线衍射显示，随着射频放电功率密度的增加耐增强薄膜的（２００）取向；用扫描电镜观察薄膜显示此时的ＴｉＮ薄膜的粒状组织更加致密。随着射频放电功率密度的增加，涂层显示微硬度增加到最大值后下降，这种影响可归结于薄膜中氮化物含量；当氯化物含量