XeF激光器中XeF2气体的监测

来源 :激光技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：zs1979

【摘要】

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给出了一种用吸收光谱法实时监测XeF激光器XeF2气体压强的方法，标定了XeF2气体在波长为253.7nm处的吸收截面的大小XeF-2532.7=(4.55±0.05)×cm2.用该监测系统测最一X

【作者】

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赖富相张永生

【机构】

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昆明技术物理研究所,西北核技术研究所

【出处】

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激光技术

【发表日期】

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2001年6期

【关键词】

：

XEF2 吸收截面准分子激光氟化氙激光器气体监测压强监测反应速度 XeF2absorption cross sectionexcimer

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给出了一种用吸收光谱法实时监测XeF激光器XeF2气体压强的方法，标定了XeF2气体在波长为253.7nm处的吸收截面的大小XeF-2532.7=(4.55±0.05)×cm2.用该监测系统测最一XeF2气体与3种作为激光器气室材料的反应速率,同时研究了XeF蓝绿激光器中输出激光能量与XeF2气体压强的关系。

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