Fabrication of hexagonal gallium nitride films on silicon （111） substrates

来源 :稀有金属：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：youjia88

【摘要】

：

Hexagonal gallium nitride films were successfully fabricated through ammoniating Ga2O3 films deposited on silicon (111 ) substrates by electrophoresis. The stru

【作者】

：

YANGLi XUEChengshan WANGCuimei

【机构】

：

ChemistryFunctionMaterialsLab,PhysicsDe0artment,InspectionInstituteforElectronicProductsofShandong

【出处】

：

稀有金属：英文版

【发表日期】

：

2003年3期

【关键词】

：

制备六面体氮化镓膜半导体材料 GaN GA2O3 X-射线衍射 SI(111) 电泳 semiconductor materials GaN films e

【基金项目】

：

国家自然科学基金，国家自然科学基金

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Hexagonal gallium nitride films were successfully fabricated through ammoniating Ga2O3 films deposited on silicon (111 ) substrates by electrophoresis. The structure, composition, and surface morphology of the formed films were characterized by X-ray diff

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