【摘 要】
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多孔硅（porous silicon,PS）样品在氧等离子体环境中退火,探究了退火温度和时间对PS光学特性的影响,通过光致发光（photoluminescence,PL）光谱和傅里叶变换红外光谱对样品进行了分
【基金项目】
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山东省高等学校科技计划项目（J08LI04）, 鲁东大学校基金（LZ20082804）
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多孔硅（porous silicon,PS）样品在氧等离子体环境中退火,探究了退火温度和时间对PS光学特性的影响,通过光致发光（photoluminescence,PL）光谱和傅里叶变换红外光谱对样品进行了分析.高斯拟合结果显示样品的PL谱由三个中心峰位分别在2.16,2.06和1.95 eV的高斯峰叠加而成,样品在200℃退火10—180 min后,峰位在2.16 eV高斯峰的发光强度增强,同时峰位在2.06和1.95 eV的高斯峰发光强度逐渐减小直至最终消失.随退火时间的延长,多孔硅的纳米结晶硅颗粒尺
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