【摘 要】
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分析起光滑表面清洗技术所面临的问题和发展现状，介绍先进清洗技术的清洗机理、工作原理和基本实现方法，旨在促进这些新技术的研究和应用，使以超光滑表面为代表的半导体工业、微
【机 构】
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西北工业大学十系,西北工业大学十系
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分析起光滑表面清洗技术所面临的问题和发展现状，介绍先进清洗技术的清洗机理、工作原理和基本实现方法，旨在促进这些新技术的研究和应用，使以超光滑表面为代表的半导体工业、微电子工业在高洁净表面清洗技术上得到进一步发展．
This paper analyzes the problems and development status of the smooth surface cleaning technology and introduces the cleaning mechanism, working principle and basic realization methods of the advanced cleaning technology to promote the research and application of these new technologies so as to make the semiconductor industry represented by ultra-smooth surface , Microelectronics industry in the high clean surface cleaning technology to be further developed.
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