【摘 要】
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研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利于液体喷射。为了实现陡直的图形结构,深入
【机 构】
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中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,上海新型烟草制品研究院有限公司
【基金项目】
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上海新型烟草制品研究院有限公司研究项目(E041190101),国家自然科学基金面上资助项目(61575216),广东省重点领域研发计划资助项目(2018B090905002),江苏省重点研发计划竞争项目(BE2017081)
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研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利于液体喷射。为了实现陡直的图形结构,深入研究了衬底和紫外曝光焦平面的相对位置(散焦量),对于SU-8光刻胶图形边界倾角的影响机制。研究发现,当散焦量从-0.6μm变化到0.2μm时,SU-8光刻胶的图形边界的倾角从82.3°上升到90°再下降到88.4°,采用最优的90°图形倾角SU-8光刻条件应用于微小网孔的制作中,可以得到微网孔最优化倾角
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