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采用光电化学方法和交流阻抗方法对不同浓度的B TA(苯并三氮唑)和5CBTA(5- 羧基苯并三氮唑)在硼砂缓冲溶液(pH 9.2)中对铜电极的缓蚀性能作了比较研究. 研究发现两者对铜的缓蚀作用机理不同. 一定浓度的BTA能使电极表面Cu2O膜的结构改变, 在电位正向扫描过程中铜电极光响应由p型转化为n型, 并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能, n型光响应越大, 缓蚀剂的缓蚀性能越好; 而5CBTA能使电极表面的Cu2O膜增多, 在电位负向扫描过程中阴极光电流密度明显增大,并可据此判断缓蚀剂的缓蚀性能, 阴极光电