【摘 要】
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以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置（BSRF）光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式（入射
【机 构】
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暨南大学理工学院材料科学与工程系,中国科学院高能物理研究所同步辐射国家实验室
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以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置（BSRF）光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式（入射角iα=0.2°）下得到了两组不同孔隙率纳米多孔薄膜的二维散射数据,在此基础上分析了薄膜的分形特征,发现所制备的薄膜除试样A1外,均存在双分形结构,辅以场发射扫描电子显微镜（FESEM）观测,证实微孔为产生散射的主体。
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