【摘 要】
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1 硅氢化物的形成条件及特性 由硅变为硅氢化物的条件不苛刻，在一定温度、压力下的强还原富氢环境，Si，SiO2，SiO2-3均可形成硅氢化物。 Si0+2H2=SiH4 SiO2+4H2=SiH4+2H2
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1 硅氢化物的形成条件及特性 由硅变为硅氢化物的条件不苛刻，在一定温度、压力下的强还原富氢环境，Si，SiO2，SiO2-3均可形成硅氢化物。 Si0+2H2=SiH4 SiO2+4H2=SiH4+2H2O SiO2-3+4H2=SiH4+2OH-+H2O 纳米硅、纳米硅合金微粒有很大的比表面积，有许多悬空键，容易与氢结合形成氢化物，也容易与其它单质结合形成合金，产生协同氢化反应。 SiH4的熔点为-185°C，沸点为-111.8°C，具高挥发性、高扩散性。工业上常利用此特
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