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迎接亚100nm的挑战

来源 :电子工业专用设备 | 被引量 : 0次 | 上传用户：qxw4721

【出 处】

：

电子工业专用设备

【发表日期】

：

2003年5期

【关键词】

：

光刻技术 光学邻近效应校正 半导体 分辨力增强技 掩模制造 晶体管 介电率 离子注入 

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