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期刊论文
平面光电器件的纳米级高速研磨
平面光电器件的纳米级高速研磨
来源 :长春理工大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:mt156
【摘 要】
:
论文探讨了采用固着磨料高速研磨进行纳米级加工的有关问题.采用固着磨料高速研磨加工技术加工光电器件,使工件已加工表面粗糙度达Ra2.88nm, 平面度达19nm,不仅实现了纳米级
【作 者】
:
王黎明
田春林
周化文
【机 构】
:
长春理工大学
【出 处】
:
长春理工大学学报
【发表日期】
:
2004年3期
【关键词】
:
光电器件
纳米级加工
高速研磨
nanometer
photoelectric elements
high speed lapping
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论文探讨了采用固着磨料高速研磨进行纳米级加工的有关问题.采用固着磨料高速研磨加工技术加工光电器件,使工件已加工表面粗糙度达Ra2.88nm, 平面度达19nm,不仅实现了纳米级加工,而且还实现了高效率、低成本加工.
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