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概述了在化学镀Au／Ni—P镀层上形成旨在改善耐蚀性的十八烷硫醇自组装单分子膜（ODT—SAM）。结果表明从水溶性胶束水溶液中获得的0DT—SAM（aq）适用于PcB用化学镀Au／Ni—P镀层的腐蚀抑制剂。
印制板用腐蚀抑制剂
【摘 要】
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概述了在化学镀Au／Ni—P镀层上形成旨在改善耐蚀性的十八烷硫醇自组装单分子膜（ODT—SAM）。结果表明从水溶性胶束水溶液中获得的0DT—SAM（aq）适用于PcB用化学镀Au／Ni—P镀层的腐蚀
【机 构】
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江苏南京
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2015年10期
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