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介绍热丝化学气相沉积（HFCVD）法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计，设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路系统，给出了该设备的性能指标参数．该设备可以用于沉积高质量的大面积金刚石膜，沉积的金刚石薄厚膜直径最大可达220mm，膜沉积速率为1～2μm／h．
大面积金刚石薄膜沉积系统的研究
【摘 要】
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介绍热丝化学气相沉积（HFCVD）法沉积大面积金刚石膜的设备的原理和设计，设备主要包括真空系统、水冷系统、热丝架、供气系统以及电路系统，给出了该设备的性能指标参数．该设备可以
【机 构】
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天津理工大学电子信息与通信工程学院
【出 处】
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天津理工大学学报
【发表日期】
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2008年1期
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