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应用减速场分析器（RFA）俄歇能谱仪得到直接谱N（E）－E，经计算机程序处理保存谱形方面的信息，并应用于软X射线光学Mo-Si多层膜介面的研究中。并说明经H＋离子轰击的界面谱形。
AES（RFA）谱形分析及其在Mo—Si多层膜界面研究中的应用
【摘 要】
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应用减速场分析器（RFA）俄歇能谱仪得到直接谱N（E）－E，经计算机程序处理保存谱形方面的信息，并应用于软X射线光学Mo-Si多层膜介面的研究中。并说明经H＋离子轰击的界面谱形。
【机 构】
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大连铁道学院!大连,荷兰fom原子分子物理研究所
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1994年6期
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