二氧化铪（HfO2）薄膜的自组装制备

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：woaidadada

【摘要】

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以Hf（SO4）2·4H2O和HCl配制HfO2前驱液，利用自组装单层膜技术，在OTS自组装单层膜的功能性基团表面制备晶态二氧化铪薄膜。研究了HfO2前驱液的浓度，退火温度和有机硅烷单分子层

【作者】

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贺中亮谈国强苗鸿雁刘剑夏傲梁东

【机构】

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陕西科技大学

【出处】

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稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2009年A02期

【关键词】

：

自组装单层膜法 HFO2 薄膜 SAMs HfO2 thin film

【基金项目】

：

国家自然科学基金项目（50672055,50872077）,国家科技支撑计划项目（2006BAF02A28）,陕西科技大学研究生创新基金资助项目

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以Hf（SO4）2·4H2O和HCl配制HfO2前驱液，利用自组装单层膜技术，在OTS自组装单层膜的功能性基团表面制备晶态二氧化铪薄膜。研究了HfO2前驱液的浓度，退火温度和有机硅烷单分子层等对HfO2薄膜制备的影响。通过接触角测量仪，XRD和SEM等表征手段，对薄膜表面形貌、微观结构、物相组成进行分析。结果表明：基板在OTS溶液中浸泡为20min时，有机层表面接触角最大为（110±2）°。利用自组装单层法成功制备出HfO2晶态薄膜，HfO2呈立方型，无其他杂相。膜层表面致密

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