【摘 要】
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A surprising phenomenon can be discovered by using femtosecond double-pulse ablation of silicon and germanium in ethanol. The ablation areas present an oscillation increase phenomenon when the pulse delay increases from 200 fs to 1 ps in the fluence range
【机 构】
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LaserMicro/NanoFabricationLaboratory,SchoolofMechanicalEngineering,BeijingInstituteofTechnology,Beij
【出 处】
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ChineseOpticsLetters
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A surprising phenomenon can be discovered by using femtosecond double-pulse ablation of silicon and germanium in ethanol. The ablation areas present an oscillation increase phenomenon when the pulse delay increases from 200 fs to 1 ps in the fluence range of 0.5–0.6 J/cm2. In contrast, the ablation areas exhibit an oscillation decrease phenomenon as the pulse delay increases when the laser fluence F
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