【摘 要】
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采用射频磁控溅射技术在聚酰亚胺柔性衬底上制备硅基薄膜太阳能电池用铝背电极,研究了不同溅射功率和工作气压条件对铝电极薄膜性能的影响.利用原子力显微镜分析表征了薄膜的
【机 构】
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大连理工大学材料科学与工程学院,大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室,中国空间技术研究院兰州物理所
【基金项目】
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教育部留学回国人员科研启动基金资助项目(200611AA03);表面工程技术国家级重点实验室基金资助项目(9140C540105080C5402)
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采用射频磁控溅射技术在聚酰亚胺柔性衬底上制备硅基薄膜太阳能电池用铝背电极,研究了不同溅射功率和工作气压条件对铝电极薄膜性能的影响.利用原子力显微镜分析表征了薄膜的表面形貌和粗糙度,薄膜的电学性能和光学性能分别采用四探针测量仪和紫外可见近红外分光光度计进行分析表征.测试结果表明:随着溅射功率的增加,薄膜表面均方根粗糙度迅速增加,漫反射率提高,薄膜的最高平均漫反射率高达70%;同时薄膜电阻率降低.工作气压为0.5Pa时所制备的薄膜具有较低的电阻率和良好的漫反射率.综合考虑薄膜的电学性能与光学性能,薄膜的最佳制备条件为溅射功率300～450W、工作气压0.5Pa.
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