【摘 要】
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用真空蒸镀法在室温Si基片上制备了Ag薄膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明:制备的Ag膜晶体仍为面心立方结构,呈多
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用真空蒸镀法在室温Si基片上制备了Ag薄膜,并用X射线衍射及反射式椭偏光谱技术对薄膜的微结构和光学常数进行了测试分析.结构分析表明:制备的Ag膜晶体仍为面心立方结构,呈多晶状态,晶粒择优取向于[111],平均晶粒尺寸约为22.7 nm,晶格常数(0.40860 nm)比标准值(0.40862 nm)略小.在250～830 nm波长范围椭偏光谱测量结果表明:Ag膜的折射率和消光系数分别在0.15～1.49和0.31～5.77之间.与块材相比,在块材的折射率大于一定值(1.00～1.33)时,Ag膜的折射率比
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