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采用磁控溅射制备TbDyFe非晶薄膜，系统研究了不同温度和时间真空热处理对薄膜结构与磁学性能的影响。当热处理温度高于450℃时，薄膜中有磁致伸缩的RFe2结晶相形成。热处理使Tb0．28Dy0.72Fe2薄膜的易磁化方向从垂直于膜面向平行于膜面转变，并显著提高膜面内饱和磁化强度。450℃真空热处理60min后Tb0.29Dy0.71Fe1.8薄膜饱和磁化强度较高、矫顽力低，更容易在低场下磁化，适于低场下作为磁致伸缩薄膜应用。