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对氮离子注入掺杂的微波等离子ＣＶＤ金刚石薄膜进行了场电子发射研究。结果表明，发射具有３特征，即当样品损伤层被击穿、发射体被激活后，稳定的发射建立起来，并表现出优异的发射性能，开启电压低（４５Ｖ），发射电流大（１３０ｍＡ）。根据电介质的击穿模型和金属／电介质／真空的发射体模型对结果进行了讨论。
氮离子注入CVD金刚石薄膜的场电子发射研究
【摘 要】
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对氮离子注入掺杂的微波等离子ＣＶＤ金刚石薄膜进行了场电子发射研究。结果表明，发射具有３特征，即当样品损伤层被击穿、发射体被激活后，稳定的发射建立起来，并表现出优异的发射性能，开启
【机 构】
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兰州大学物理系,北京工业大学应用物理系
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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1999年4期
【基金项目】
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国家教委优秀青年教师基金,国家自然科学基金
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