【摘 要】
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以乙酰丙酮铱为前驱体，采用金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）技术在钼基体上制备了铱薄膜。研究了铱的沉积速率与基体温度、乙酰丙酮铱的加热温度和运载气体（Ar）流速等沉积参数
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（50771051）,云南省自然科学基金资助项目（2004E0064M）
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以乙酰丙酮铱为前驱体，采用金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）技术在钼基体上制备了铱薄膜。研究了铱的沉积速率与基体温度、乙酰丙酮铱的加热温度和运载气体（Ar）流速等沉积参数的关系。铱薄膜的沉积速率与沉积温度之间的关系不符合Arrhenius方程：沉积速率与绝对温度的倒数呈抛物线关系，当温度为750℃时，铱的沉积速率达到最大值，基体温度对薄膜质量有显著影响；随着以乙酰丙酮铱加热温度的升高，铱的沉积速率直线增加；而Ar流速的增大则显著减小铱的沉积速率。
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