【摘 要】
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采用静电自组装技术在单晶硅和石英玻璃基片上制备了阳离子聚电解质PDDA和阴离子聚电解质PS-119的多层复合薄膜,对薄膜作低角度X射线衍射分析,得到清晰的 Kiessig 衍射曲线,
【机 构】
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武汉理工大学光纤中心,武汉理工大学材料研究与测试中心
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采用静电自组装技术在单晶硅和石英玻璃基片上制备了阳离子聚电解质PDDA和阴离子聚电解质PS-119的多层复合薄膜,对薄膜作低角度X射线衍射分析,得到清晰的 Kiessig 衍射曲线,根据衍射曲线估算了薄膜的厚度.自组装PDDA/PS-119薄膜的层状结构特征不明显,聚电解质单层的厚度可以控制在1nm上下,双层的厚度可以控制在2nm左右,薄膜的总厚度与聚电解质水溶液的浓度有关,与薄膜的双层数成比例关系.
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