超疏水光催化协同自清洁表面研究进展

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:flysky1979
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超疏水光催化自清洁表面同时具有物理自清洁和化学自清洁性能,近年来已成为研究热点。主要介绍了超疏水表面、光催化表面的自清洁原理和制备方法,阐述了超疏水光催化协同自清洁表面的制备原理及其在纺织品基材和其他基材上的研究现状,并展望了超疏水光催化协同自清洁表面的发展前景和趋势。
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