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采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了TiO薄膜，靶材为纯度99．9％的钛靶，溅时基片不加热。XRD结果显示，所得TiO薄膜的晶型为锐钛矿相；SEM结果显示，随着热处理温度的增加TiO薄膜晶粒尺寸增大，光催化性能显示，经过500℃热处理1h后的TiO薄膜具有较好的光催化效率。
热处理温度对TiO薄膜性能的影响
【摘 要】
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采用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备了TiO薄膜，靶材为纯度99．9％的钛靶，溅时基片不加热。XRD结果显示，所得TiO薄膜的晶型为锐钛矿相；SEM结果显示，随着热处理温度的增加TiO薄膜晶
【机 构】
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武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室430070
【出 处】
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武汉理工大学学报
【发表日期】
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2002年6期
【基金项目】
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湖北省自然科学基金资助 (2 0 0 1ABB0 77)
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