【摘 要】
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以消炎镇痛药（S）G布洛芬与Cu^2＋ 配合物为模板分子,以甲基丙烯酸为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,聚砜膜为多孔支撑层,利用辐射引发聚合制备了Cu^2＋ 配位分子印迹复合膜
【机 构】
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天津工业大学环境与化学工程学院、中空纤维膜材料与膜过程省部共建国家重点实验室培育基地,天津工业大学天津工大纺织助剂有限公司
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以消炎镇痛药（S）G布洛芬与Cu^2＋ 配合物为模板分子,以甲基丙烯酸为功能单体,乙二醇二甲基丙烯酸酯为交联剂,聚砜膜为多孔支撑层,利用辐射引发聚合制备了Cu^2＋ 配位分子印迹复合膜.通过紫外光谱研究发现,（S）G布洛芬、Cu^2＋ 和甲基丙烯酸形成了配位比为1∶2∶2的3元配合物.通过扫描电镜及渗透实验发现聚砜基膜固含量为17%时,修饰后印迹膜形态及性能最好.同时,通过选择渗透实验发现,印迹膜对其手性对称物（R）G布洛芬及结构类似物酮洛芬渗透选择性较差.
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