【摘 要】
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本文介绍了一种自行设计的、能连续制备多层外延膜的简易分子束外延装置,并用此装置在Pb_(0.8)Sn_(0.2)Te衬底上生长了PbS单晶薄膜。利用扫描电镜、X-射线分析,红外反射光谱
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所,中国科学院上海技术物理研究所,中国科学院上海技术物理研究所,中国科学院上海技术物理研究所
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本文介绍了一种自行设计的、能连续制备多层外延膜的简易分子束外延装置,并用此装置在Pb_(0.8)Sn_(0.2)Te衬底上生长了PbS单晶薄膜。利用扫描电镜、X-射线分析,红外反射光谱等检测手段,对单晶膜的表面形态及结晶质量进行了观察和测试分析。
In this paper, a simple molecular beam epitaxy device designed by ourselves and capable of continuously preparing multilayered epitaxial films is introduced. With this device, PbS single crystal films are grown on Pb_ (0.8) Sn_ (0.2) Te substrate. The surface morphology and crystal quality of single crystal film were observed and analyzed by means of scanning electron microscopy, X-ray analysis and infrared reflectance spectroscopy.
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