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新型陶瓷材料在信息、航空航天、生命科学等现代科学技术各个领域中发挥了极其重要的作用.微量、痕量杂质对材料的光、电等性能影响巨大.因此微量、痕量杂质含量的精确测定对材料制备和性能调控至关重要.文章综述了近10年来等离子体发射光谱/质谱(ICP-AES/MS)在新型陶瓷材料的微、痕量杂质分析方面的应用.结合作者的研究工作,着重介绍和评论了等离子体发射光谱/质谱各种进样方法的优缺点,并展望其发展趋势.