【摘 要】
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基于60Co-γ射线和10keV X射线辐射源,系统地研究了55nm硅-氧化硅-氮化硅-氧化硅-硅闪存单元的电离总剂量效应,并特别关注其电学特性退化的规律与物理机制.总剂量辐照引起闪
【机 构】
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中国科学院大学,中国科学院微电子研究所
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基于60Co-γ射线和10keV X射线辐射源,系统地研究了55nm硅-氧化硅-氮化硅-氧化硅-硅闪存单元的电离总剂量效应,并特别关注其电学特性退化的规律与物理机制.总剂量辐照引起闪存单元I-V特性曲线漂移、存储窗口变小和静态电流增大等电学特性的退化现象,并对其数据保持能力产生影响.编程态闪存单元的Id-Vg曲线在辐照后显著负向漂移,而擦除态负向漂移幅度较小.对比两种射线辐照,擦除态的Id-Vg曲线漂移方向不同.相比于擦除态,富含存储电子的编程态对总剂量辐照更为敏感;且相比于60Co-γ射线,本文观测到了显著的X射线剂量增强效应.利用TCAD和Geant4工具,从能带理论详细讨论了55nm硅-氧化硅-氮化硅-氧化硅-硅闪存单元电离总剂量效应和损伤的物理机制,并模拟和深入分析了X射线的剂量增强效应.
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