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使用独特的镶拼矩形TiAl靶，用中频反应磁控溅射方法，采用周期性改变靶电流的方法在高速钢（W18Cr4V）基体上沉积了（Ti,Al）N多层薄膜。利用场发射扫描电镜、纳米硬度仪和X射线衍射仪等方法研究了（Ti,Al）N多层薄膜组织结构、硬度和膜基结合性能。结果表明，制备的（Ti,Al）N多层薄膜硬度略低于20GPa，弹性模量均大于230GPa，薄膜的临界载荷均大于50N；多层薄膜有一定的择优取向，且择优取向随着靶电流周期性的改变而有所变化。同时发现，（Ti,Al）N多层薄膜硬度是结构、界面和择优取向共同作用