【摘 要】
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目的：验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系。方法：①测试菌斑氧化还原电位。②利用ＳＯＤ作为干扰因素观察氧化还原电位的变化。结果：菌斑电位低于非菌斑牙面电
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目的：验证牙菌斑中超氧化物阴离子自由基与菌斑氧化还原电位的关系。方法：①测试菌斑氧化还原电位。②利用ＳＯＤ作为干扰因素观察氧化还原电位的变化。结果：菌斑电位低于非菌斑牙面电位，为负电位。菌斑加ＳＯＤ后使菌斑电位升高。结论：菌斑负电位与超氧化物阴离子自由基有关，自由基可能是菌斑负电位形成的主要因素。
Objective: To verify the relationship between the superoxide anion radical and plaque redox potential in dental plaque. Methods: ① test plaque redox potential. ② SOD as a disturbing factor to observe changes in redox potential. Results: Plaque potential was lower than non-plaque surface potential, negative potential. Plaque plus SOD increased plaque potential. Conclusion: The negative potential of the plaque is related to the superoxide anion free radical. Free radicals may be the main factors of negative plaque formation.
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