【摘 要】
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光学光刻２００３年将达１５０ｎｍ过去的报导一致认为，１２０ｎｍ是光学光刻的极限，２５６ＭＤＲＡＭ需要的２５０ｎｍ常规分辨率将在１９９７年实现，但对于能否达到适用于１ＧＤＲＡＭ的１５０ｎｍ特征尺寸尚不清楚。现在此问题已经明朗，极限仍是１２０ｎｍ，而利用...
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光学光刻２００３年将达１５０ｎｍ过去的报导一致认为，１２０ｎｍ是光学光刻的极限，２５６ＭＤＲＡＭ需要的２５０ｎｍ常规分辨率将在１９９７年实现，但对于能否达到适用于１ＧＤＲＡＭ的１５０ｎｍ特征尺寸尚不清楚。现在此问题已经明朗，极限仍是１２０ｎｍ，而利用...
Optical lithography will reach 150 nm in 2003 The past reports agreed that 120 nm is the limit of optical lithography and that the conventional 250 nm resolution required for 256 MHz DRAM will be achieved in 1997 but it is unclear whether a 150 nm feature size suitable for 1GDRAM can be achieved. . Now this problem has been clear, the limit is still 120nm, and the use of ...
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