WC-Co硬质合金基体上高附着力金刚石薄膜的制备

来源 :无机材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：walger

【摘要】

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采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜,研究了TiNx中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能的影响.结果表明,在酸浸蚀脱钴处理的基础上,

【作者】

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杨仕娥鲁占灵樊志琴姚宁张兵临

【机构】

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郑州大学材料物理教育部重点实验室

【出处】

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无机材料学报

【发表日期】

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2005年1期

【关键词】

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金刚石薄膜中间层形核密度附着力 diamond film interlayer nucleation density adhesion

【基金项目】

：

河南省科技攻关项目

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采用微波等离子体化学气相沉积(CVD)法在WC-Co硬质合金基体上制备金刚石膜,研究了TiNx中间层的引入对金刚石薄膜质量及其附着性能的影响.结果表明,在酸浸蚀脱钴处理的基础上,通过预沉积氮含量呈梯度变化的TiNx中间过渡层,可在硬质合金基体上制备出高质量的金刚石薄膜;压痕法测试其临界载荷达1000N.

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