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薄膜混合电路中有机薄膜厚度的快速测定

来源 :电子工艺技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：masonchina
【摘 要】
：
介绍了一种无损、快速、准确测定有机薄膜厚度的新方法-FT-IR反射-干涉光谱法.对测厚的原理进行了分析,将此方法用于薄膜微波电路生产中光刻胶和聚酰亚胺厚度的测定,并与传统
【作 者】
：
王从香 
【机 构】
：
南京电子技术研究所
【出 处】
：
电子工艺技术
【发表日期】
：
2004年3期
【关键词】
：
FT-IR 薄膜微波电路 光刻胶 厚度 FT-IR Thin film microwave circuit Photo-etchant Thickness 
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介绍了一种无损、快速、准确测定有机薄膜厚度的新方法-FT-IR反射-干涉光谱法.对测厚的原理进行了分析,将此方法用于薄膜微波电路生产中光刻胶和聚酰亚胺厚度的测定,并与传统的用台阶仪测厚方法进行比较. FT-IR反射-干涉光谱法更方便、快捷、更准确,避免了光刻的过程和光刻显影过程中显影液对膜厚的减损,以及台阶测厚仪本身可能造成的测量误差.
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