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基于描述激光直写邻近效应的双高斯函数之差抗蚀剂模型 ,计算分析了邻近效应带来的掩模加工的偏差 ,及其对光刻图形质量的影响。模拟结果表明 ,当掩模的特征尺寸为 1.5 μm时 ,激光直写所加工掩模的相对面积偏差达 5 % ,并对最终的光刻图形的质量产生严重影响
畸变的掩模对光刻图形质量的影响
【摘 要】
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基于描述激光直写邻近效应的双高斯函数之差抗蚀剂模型 ,计算分析了邻近效应带来的掩模加工的偏差 ,及其对光刻图形质量的影响。模拟结果表明 ,当掩模的特征尺寸为 1.5 μm时
【机 构】
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四川大学物理系,CentralMicrostructureFacility
【出 处】
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激光技术
【发表日期】
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2002年01期
【基金项目】
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微细加工光学技术国家重点实验室基金;国家自然科学基金;博士点基金资助项目
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