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以3,3′,4,4′-二苯甲酮四酸二酐（BTDA）和2,4,6-三甲基-1,3-苯二胺（TMMPD）为单体,以N-甲基吡咯烷酮（NMP）为溶剂,通过低温缩聚-化学亚胺化法合成酮酐型聚酰亚胺（P（IBTDA-TMMPD））;在303~423 K温度下对制备的聚酰亚胺均质膜进行真空后处理,考察溶剂残留量变化及其对膜气体透过性能和分离性能影响.结果表明：经303~373 K真空热处理后,均质膜失重约占全部处理过程中总失重的80%.在373~423 K真空处理过程中,聚酰亚胺膜残留溶剂量变化趋于平稳;当溶剂残留率