射频等离子体辅助化学气相沉积Ti-B-N薄膜的结构与性能

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：itlixw

【摘要】

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研究了射频等离子体辅助化学气相沉积获得的Ti B N薄膜的微观组织结构和力学性能。结果表明 :B的加入使Ti B N薄膜中出现TiN纳米晶、BN非晶和TiB2 非晶 (nc TiN/a BN/a TiB2

【作者】

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马胜利马青松牛新平徐可为 P Karvankova S Veprek

【机构】

：

西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,慕尼黑工业大学无机材料化学研究所,慕尼黑

【出处】

：

中国有色金属学报

【发表日期】

：

2004年12期

【关键词】

：

射频等离子体辅助化学气相沿积 Ti-B-N薄膜硬度耐磨性

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研究了射频等离子体辅助化学气相沉积获得的Ti B N薄膜的微观组织结构和力学性能。结果表明 :B的加入使Ti B N薄膜中出现TiN纳米晶、BN非晶和TiB2 非晶 (nc TiN/a BN/a TiB2 )的复相结构。Ti B N薄膜组织致密 ,晶粒细小 ,薄膜硬度显著提高。用球盘式磨损实验考察了薄膜的摩擦学特性。与TiN相比 ,Ti B N薄膜抗磨损性能有显著提高 ,磨损机制为微观切削与疲劳磨损共同作用 ,但摩擦系数较TiN稍高

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