FSI国际宣布将ViPR^TM全湿法去除技术扩展到NAND存储器制造

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【摘要】

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全球领先的半导体制造晶圆加工、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司宣布：一家主要的存储器制造商将FSI带有独特ViPR^TM全湿法无灰化清洗技术的ZETA清洗系统扩展到NAND

【出处】

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半导体技术

【发表日期】

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2009年6期

【关键词】

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NAND闪存半导体制造去除技术 FSI 全湿法存储器国际清洗技术

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全球领先的半导体制造晶圆加工、清洗和表面处理设备供应商FSI国际有限公司宣布：一家主要的存储器制造商将FSI带有独特ViPR^TM全湿法无灰化清洗技术的ZETA清洗系统扩展到NAND闪存生产中。许多器件制造商对采用FSI的ZETA ViPR技术在自对准多晶硅化物形成过程所带来的益处非常了解。该IC制造商就这一机台在先进的NAND制造中可免除灰化引发损害的全湿法光刻胶去除能力进行了评估。客户对制造过程中无灰化光刻胶剥离法、

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