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背景：上颌窦黏膜形变温和均匀是减少骨挤压式上颌窦提升手术中黏膜穿孔的重要因素。目的：比较两种直径种植体对上颌窦黏膜形变的影响。方法：在ANSYS有限元软件的特定单元中分别建立直径4.1mm和4.8mm的ITI种植体与厚0.3mm的上颌窦黏膜的有限元模型,模拟上颌窦提升手术抬高黏膜,根据大变形理论计算不同提升高度黏膜表面Vonmises应力值。结果与结论：结果显示,最大Vonmise应力发生在黏膜中心,最小Vonmise应力发生在黏膜边缘。两种直径种植体对黏膜中心作用力差异无显著性意义（P〉0.05）,而对