【摘 要】
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重点探究了直径200 mm超厚层硅片滑移线的影响因素以及控制方法.使用平板硅外延炉加工超厚层外延片,并使用颗粒测试仪SP1和光学干涉显微镜表征滑移线.从热应力是滑移线的主要成因出发,通过对衬底和基座背面凹槽的设计以及升温曲线的控制这三个方面改善了滑移线.结果 表明,随着衬底倒角背面幅长和基座背面凹槽深度的增加,外延片的滑移线长度均呈现先减小后增大的趋势.衬底倒角最佳背面幅长为500 μm,基座背面凹槽的最佳深度为0.80 mm.同时,在873 K下恒温3 min的升温工艺可以减少厚层硅外延片的滑移线.
【机 构】
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河北普兴电子科技股份有限公司,石家庄050200
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重点探究了直径200 mm超厚层硅片滑移线的影响因素以及控制方法.使用平板硅外延炉加工超厚层外延片,并使用颗粒测试仪SP1和光学干涉显微镜表征滑移线.从热应力是滑移线的主要成因出发,通过对衬底和基座背面凹槽的设计以及升温曲线的控制这三个方面改善了滑移线.结果 表明,随着衬底倒角背面幅长和基座背面凹槽深度的增加,外延片的滑移线长度均呈现先减小后增大的趋势.衬底倒角最佳背面幅长为500 μm,基座背面凹槽的最佳深度为0.80 mm.同时,在873 K下恒温3 min的升温工艺可以减少厚层硅外延片的滑移线.
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