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采用四乙氧基硅烷(Tetraethylorthosilicate,TEOS),在chemicalvapordeposition(CVD)体系中制备二氧化硅薄膜,退火形成SiO2纳米粒子生长SWNTs。通过改变各种实验条件,如温度、催化剂纳米粒子、碳源及载气流量等,对非金属纳米粒子诱导生长SWNTs阵列进行系统研究。