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通过引入有效时差的概念，提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比，该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系，并可对光刻工艺进行优化设计
光刻工艺参数的优化方法
【摘 要】
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通过引入有效时差的概念，提出了一种可模拟光刻工艺参数间的相互关系及优化光刻参数的方法。与Dill及Mack等的方法相比，该方法可直接建立光刻工艺参数之间的关系，并可对光刻工艺
【机 构】
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南京电子器件研究所国家平板显示工程技术研究中心
【出 处】
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半导体光电
【发表日期】
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2001年1期
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