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磁流变抛光是获得光滑光学表面的理想工艺之一．为了获得一种可用于磁流变抛光中的环形磁场，设计了一种新型的环带式磁场结构，并对其进行模拟与分析，利用该磁场结构构造了一种面接触式的磁流变抛光设备．实际测量证明该磁场结构可形成满足磁流变抛光要求的高梯度磁场．将环形磁极浸入磁流变抛光液中，可使其形成圆环状的Bingham凸起；利用它对K9玻璃进行抛光，可使其表面粗糙度达到约为1nm的水平．