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基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。
非接触间隙检测
【摘 要】
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基于光的分振幅干涉原理,用激光做光源,自行设计了用于接触或接近式曝光工艺中掩模板与基片间的间隙均匀性检测装置,通过实际运用,达到理想效果。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2014年11期
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