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利用IRl2012模型分析了电离层薄层高度的时空变化规律，提出了基于应用中STEC的电离层改正误差分析理论，分析了电离层薄层高度变化的相关影响．结果表明，电离层薄层高度变化对电离层穿刺点位置、投影映射函数值、电离层建模结果、电离层模型精化和电离层模型精度评估结果的影响较大．高度截止角为10°时，电离层薄层高度变化导致电离层穿刺点的经纬度差异最大可达3．2°，投影映射函数最高可引入约15．46％的误差，电离层建模结果差异和建模实用误差最高分别达9，71％，3．64％，采用不同薄层高度数据