电子束背散射与前散射的分析

来源 :山东大学学报：工学版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：geshufa

【摘要】

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利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验.曝光过程中加速电压为5～30 kV,衬底基片为铬和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯).在处理模拟电子穿越衬底PMMA的边界时,采用了几率确定法,用以

【作者】

：

尹明何立琴

【机构】

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山东大学控制科学与工程学院

【出处】

：

山东大学学报：工学版

【发表日期】

：

2004年5期

【关键词】

：

邻近效应电子束曝光机畸变背散射与前散射 proximity effect E-beam lithography system distortion

【基金项目】

：

国家自然科学基金，山东省教育厅资助项目

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利用电子束曝光机完成有关邻近效应的实验.曝光过程中加速电压为5～30 kV,衬底基片为铬和PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯).在处理模拟电子穿越衬底PMMA的边界时,采用了几率确定法,用以判断电子是否在界面处发生一次弹性散射.得到了散射电子在电子束胶层中背散射与前散射的能量沉积分布图.实际应用表明,该方法像差小而可以不用动态校正.

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