论文部分内容阅读
概述了193nm薄膜激光诱导损伤的研究进展。通过对紫外到深紫外波段几种典型薄膜损伤形貌的介绍，对比分析了193nm薄膜激光诱导损伤的可能原因。指出在该波段的氧化物薄膜损伤中，吸收是导致薄膜大块损伤的重要因素，而氟化物的薄膜损伤则是由沉积过程的膜层局部缺陷造成。根据薄膜样品的损伤分析，表明薄膜的某些制备参数与激光损伤阈值相关联。为提高薄膜元件的抗激光损伤能力，分别从薄膜材料的选择、膜系设计的完善以及沉积工艺的优化等三个方面出发，总结出改善薄膜激光损伤阈值的方法。