【摘 要】
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根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题.对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀
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根据惯性约束聚变系统技术要求,提出一种镀膜减反方案,以解决现有光栅由于元件表面反射影响衍射效率的问题.对色分离光栅镀膜减反技术进行了详细的分析,根据标量理论给出了镀膜光栅的各项技术要求,优化了光栅结构参数.模拟计算结果发现,光栅表面反射几乎完全消除,表明可以通过色分离光栅镀膜减反提高衍射效率的目的.该镀膜光栅刻槽深度的优化值为2.84μm,膜厚为等效1/4波长,即71.2nm.
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